硅微粉在膜系设计中非常重要的一个原则就是可以限制膜系的层数和厚度,否则会导致制备周期长、累积误差大、应力过大甚至脱膜等现象,不利于优质薄膜的制备。例如对于1064 nm 反射膜的设计(为便于讨论,此处不考虑薄膜材料的吸收),根据薄膜设计理论,在周期膜系中,如果周期数确定,两种材料的折射率比值越大,则反射带就越宽,反射率也就越高。红外波段常用组合ZnS和YbF3 的折射率比值约为1.5,而Si 和YbF3 作为材料组合时的折射率比值约为2.2。利用光学薄膜设计软件进行研究得出,为了1064 nm 相同的反射效果,选用Si 和YbF3 进行膜系设计,反射带更宽,可以大大降低中心波长的制备误差,同时膜层的层数和厚度也大大减少。Si 在很多红外复杂膜系中的设计也有类似的优势,可以作为膜系设计中的高折射率材料,但是由于在可见光甚至紫外波段吸收严重,不适合于制备低吸收薄膜。
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